NITROGENIUM Trifluoride (NF3) Puritas Gas
Basic Information
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Quae est haec materia?
Nitrogenium trifluoride (NF3) est gas sine colore et inodoro in cella temperatura et pressura atmosphaerica. Sub modica pressura potest liquari. NF3 constans est sub condicionibus normalibus et facile non putrescit. Potest tamen dissolui cum ad altas calores exposita vel coram quibusdam catalystis. NF3 altam calefactionem globalem potentialem (GWP) in atmosphaeram dimissam habet.
Ubi hac materia uteris?
Purgatio agentis in industria electronicorum: NF3 late adhibetur ut agentis purgatio ad contaminantium residuas tollendas, ut oxydi, e superficiebus semiconductorum, plasmatis tabulas (PDPs), et alia elementa electronica ostendunt. Haec superficies sine laesione efficaciter mundare potest.
Etching gas in fabricationis semiconductoris: NF3 utebatur ut felis engraving in processu semiconductoris fabricando. Maxime efficax est in dioxide etching pii (SiO2) et nitride pii (Si3N4), quae communes materiae in circuitibus integralibus fabricandis utuntur.
Productio compositarum fluorinorum altae puritatis: NF3 fons est validus fluorini ad productionem variarum compositorum fluorinorum continentium. Praecursor adhibetur in productione fluoropolymerorum, fluorocarbonum et specialium oeconomiae.
Plasma generationis in tabulis planis fabricandis ostentatio: NF3 cum aliis gasis ad plasma creandum adhibetur in productione tabulae planae ostentationum, sicut liquidae cristallinae ostentationes (LCDs) et PDPs. Plasma essentiale est in depositione et erigendo processibus in tabulis fabricandis.
Nota applicationes et ordinationes specificae ad usum huius materiae/producti variari possunt a terra, industria et proposito. Semper securas normas sequere et peritum consule antequam hac materia/producto in aliqua applicatione utatur.
